美國升級打壓華為的手段，致使整個世界半導體行業遭受到影響，國內受到的影響尤為嚴重！尤其是在美國升級打壓華為手段的背景下，臺積電宣佈赴美建廠，讓國人們更為關注中芯國際什麼時候能真正的成長起來，扛起中國晶片製造的大量！

我們在關注中芯國際能否購買到荷蘭ASML公司最高階的光刻機的時候，國內一家企業突然宣佈一重大訊息，晶片製造產業鏈中另一關鍵部件——光刻膠被成功研製！

光刻膠在晶片製造過程中，他的地位與光刻機一樣，非常重要！

我國光刻膠與光刻機一樣，都被外企卡脖子，尤其是在高階光刻膠方面，落後外企很多很多，但是，這種光刻膠被“卡脖子”的現象已不復存在，被中國一家名為“南大光電”的企業打破了！

世界最先進的光刻膠技術在日本，以JSR、東京應化等為代表的四家日企，壟斷了世界75％的光刻膠市場，美企在光刻膠市場佔據13％的份額，而中國企業所佔的市場份額不足10%，而且還是中低端市場！

在此之前，我國在高階光刻膠領域是空白的，而日企生產的可用於

28nm到7nm工藝光刻機的光刻膠佔據了93％，可見我國發展高階光刻膠的緊迫性。

為了打破日美的壟斷，尋求新的突破，國內眾多光刻膠研發企業開始全力技術攻關！近日，南大光電終於取得重大突破！

據悉，南大光電研發的可用於7nm光刻機身上的光刻膠已按計劃進行客戶測試階段，這意味著我國在高階光刻膠技術上已經“破冰”，不日就可打破日美的壟斷！

其實，南大光電在2017年的時候就開始著手研發高階光刻膠，並且獲得了國家的專案支援。當時，南大光電的負責人對外表示，將用三年的時間完成該技術的攻關，實現量產，達到年產量25噸的產業規模！

如今，南大光電已經兌現了他當初的承諾，用時不到三年實現了技術上的突破，已經進入產品客戶測試階段，下一步就是光刻膠的量產及銷售！我國在半導體領域不斷實現技術突破，打破外企的壟斷，筆者相信，用不了多久，我國將徹底擺脫外企的束縛，徹底消滅“卡脖子”現象。

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