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臺積電吹太過?N3工藝良率曝出大問題:A17效能令人擔憂

1月11日,據韓國經濟日報報道,

由於臺積電N3工藝良率不足,投片量過低,導致除蘋果之外的廠商都選擇暫停投入到第一代3nm工藝陣營。

按早前的說法,臺積電的3nm工藝良率達到了80%,而三星的3nm工藝僅有10%~20%,但目前看來,兩家廠商的良率實際上可能相差不大。

(圖片來自:蘋果官網)

臺積電N3工藝在去年底正式宣佈量產,所有廠商的目光都聚焦到了臺積電身上,尤其是首次公開的良率高達80%,讓消費者們看到了效能提升的希望。不過,從最新曝光的訊息來看,臺積電似乎“隱瞞”了一些實情。按照爆料情況來看,臺積電的首批3nm製程工藝客戶應該包含了市場幾大頭部廠商,例如英特爾、AMD、高通和蘋果,但前幾個品牌相繼從首批客戶的列表中退出,只剩蘋果依然還在堅持。

現在看來,除了代工價格高昂之外,似乎還有良率不足的問題。

(圖片來自:Snapdragon)

另一方面,受到iPhone 14與iPhone 14 Plus減產影響,蘋果不再需要大量採購A15仿生晶片,

而臺積電5nm製程工藝的利用率回落到70%~80%,對本就出現訂單量不足的臺積電造成巨大的壓力。

不過,高通在前段時間透露,驍龍8 Gen3移動平臺將會採用3nm製程工藝,但訂單會同時交由臺積電與三星負責,前者佔據較大的訂單量,而後者則是負責補充產能。當然,距離高通下一代旗艦晶片投產還有很長的時間,說不定臺積電和三星都成功提升了良率,表現更加優異呢?

(圖片來自:蘋果官網)

所幸臺積電在3nm製程工藝上準備了5個版本,

不出意外的話,蘋果A17仿生晶片、驍龍8 Gen3應該都會採用更加先進的N3E工藝,

這個版本的最大優勢是價格便宜,但對效能提升的影響可能沒有這麼大。競爭對手三星的第二代3nm製程工藝已經在路上,不僅良率得到了很大的提升,功耗也將至少下降45%;三星還允許客戶透過調整奈米片的寬度來定製所需的效能表現,可以說是服務相當到位了。

(圖片來自:Snapdragon)

事實上,

即便臺積電表現不佳,蘋果、高通也不得不跟進最新的先進工藝。

從蘋果“擠牙膏”式的效能提升來看,A系列仿生晶片急需先進工藝來獲得更大的提升,特別是功耗部分,正是能耗不平衡的問題才讓蘋果取消了為A16仿生晶片提供光線追蹤特性,這也讓A16成為今年唯一一款不支援該特性的旗艦級移動平臺,令人遺憾。在臺積電4nm的加持下,驍龍8 Gen2已經有了和蘋果叫板的底氣。這樣看來,下一代旗艦晶片的競爭將會相當激烈。

(封面圖片來自:蘋果官網)