在光刻機領域內，技術最先進的廠商是ASML，資料顯示，ASML的光刻機佔領了中高階市場，尤其是EUV光刻機，更是生產製造7nm以下晶片的必要裝置。

由於僅有ASML能夠研發製造EUV光刻機，而EUV光刻機需求又很巨大，不僅用於生產製造7nm以下製程的晶片，還用於生產製造儲存類晶片。

結果導致EUV光刻機是一機難求，因為EUV光刻機供不應求，三星李在鎔都親自前往荷蘭ASML總部。

在這樣的情況下，ASML在韓國投資2億美元建設EUV光刻機再製造中心，目的就是緩解EUV光刻機產能不足。

但就在近日，ASML傳來倆新訊息，一個還與EUV光刻機出貨相關，情況是這樣的。

第一個訊息，ASML訂單金額高達1330億元。

據悉，ASML已經發布了2021年第二季度財報，雖然營收和利潤都低於預期，但ASML擠壓了大量的光刻機訂單。

根據ASML釋出的訊息可知，第二季度的淨預訂額為 83 億歐元，其中EUV光刻機就佔了49億歐元，剩下則是DUV光刻機等。

而總擠壓訂單金額高達175億歐元，摺合人民幣1330億元。

在這些光刻機訂單中，一部分訂單就是來自國內市場。例如，中芯國際早就向ASML全款訂購了一臺EUV光刻機。

今年早些時候，中芯國際又向ASML訂購了12億美元的DUV光刻機裝置等，而這些訂單也在生產中。

可以說，ASML擠壓了大量的光刻機訂單，這意味著光刻機需求巨大。今年年底或明年初，國產先進光刻機下線後，其自然也會有巨大的市場需求。

第二個訊息，A更先進的EUV光刻機已經交付。

據悉，EUV光刻機是目前最先進的光刻機，其能夠用於生產製造7nm以下製程的晶片。

但ASML釋出的最新訊息稱，其已經推出了更為先進的TWINSCAN NXE：3600D EUV光刻機，相比之前的TWINSCAN NXE：3400C，其生產能力提升了15%-20%。

要知道，在EUV光刻機方面，ASML目前還無法向國內廠商出售，交付的往往都是DUV光刻機。

如今，ASML已經推出了更為先進的EUV光刻機，這意味著上一代EUV光刻機向國內出貨的難度就會降低。

因為美國一直阻撓ASML向國內廠商出售最先進的技術，所以國內廠商訂購了3年的EUV光刻機至今都沒有交付。

但隨著全新型號的TWINSCAN NXE：3600D EUV光刻機開始交付，那麼，上一代TWINSCAN NXE：3400C EUV光刻機向國內廠商出貨的可能性就大大增加了。

更何況，ASML也急於向國內廠商出貨包含EUV光刻機在內所有技術，否則，ASML總裁也不會警告美國，要求其放開對ASML的限制。

當然，對於國內廠商而言，獲得EUV光刻機也十分迫切。

因為中芯已經完成了7nm晶片的研發任務，用DUV光刻機生產製造7nm晶片成本高、工藝相對複雜，有了EUV光刻機後，這些情況就會明顯改善。

再加上，中芯國際已經開始展開5nm等更先進製程晶片的研發，倘若沒有EUV光刻機的話，5nm等晶片是無法全面展開研發工作的。

最後，更先進的TWINSCAN NXE：3600D EUV光刻機開始交付，這意味著臺積電、三星等晶片企業的生產能力將會有所提升，成本也會隨之降低。

要知道，5nm等晶片的成本已經很高了，3nm晶片的成本還會進一步提升，但大量的TWINSCAN NXE：3600C EUV光刻機到貨後，5nm、3nm晶片的成本或有所降低。

這對於廣大使用者和智慧裝置廠商，尤其是智慧手機廠商而言是一個好訊息，因為晶片成本不斷上漲，導致各大廠商的手機價格是水漲船高，利潤也降低了。

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