比3nm“砍單”更嚴重? 臺積電也沒有料到, “脫鉤”的代價這麼大
俗話說“屋漏偏逢連夜雨”,在3nm被砍單以後,臺積電也沒有料到,還有更加嚴重的事情到來,據悉,全球晶片市場銷量萎縮,導致臺積電的7nm工藝產能的利用率也直接跌破了5成...
三星與ASML達成協議:採購下一代High-NA EUV光刻機
售價25億的“電老虎”下代EUV光刻機功耗飆到200萬瓦
ASML首席技術官:明年將向客戶交付首臺High-NA EUV光刻機
至於 High-NA EUV 技術之後的技術方案,Martin 表示,ASML 正在研究降低波長,但他個人不認為 Hyper-NA 是可行的,他們正在對其進行研究,但這並不意味著它將投入生產...
26億一臺!ASML全新光刻機準備中:Intel提前鎖定 衝擊2nm工藝
據介紹,NXE:3600E 將在像差、重疊和吞吐量方面進行漸進式光學改進,而在0.33 NA的EUV光刻機領域,ASML路線圖包括到2025年左右推出吞吐量約為220wph的NXE:4000F...
英特爾晶片廠已安裝多臺EUV裝置:為未來晶片做好準備
除此之外,英特爾之前也表示將會在晶圓代工領域發力,因此EUV光刻機的大量應用還是可以有效地提升先進製程晶片的產能的...
超3.2萬億元!ASML的新訊息傳來,還有140臺EUV光刻機等
1330億元!ASML傳來倆新訊息,一個與EUV光刻機出貨相關
在光刻機領域內,技術最先進的廠商是ASML,資料顯示,ASML的光刻機佔領了中高階市場,尤其是EUV光刻機,更是生產製造7nm以下晶片的必要裝置...
ASML正式就先進光刻機亮明態度,臺積電、中芯國際沒料到結果
再加上,臺積電又給ASML提供了大量的晶片製造技術,所以ASML總是優先給臺積電提供先進光刻機等裝置,七成以上EUV光刻機都出貨了給臺積電...
儲存密度一下提高40%!不採用EUV美光最新1α奈米DRAM如何做到的?
多重圖案化過程美光的接下來的三個DRAM節點將繼續使用深紫外線(DUV)光刻技術,但該公司現在正在考慮將EUV用於其1製程...
9.38億元!ASML第一臺全新EUV極紫外光刻機交付
第二代EUV光刻機將會是NXE:5000系列,物鏡NA提升到0.55,進一步提高光刻精度,但原計劃2023年問世,現在推遲到2025-2026年,而價格預計將突破3億美元...
造不出EUV光刻機?中科院宣佈好訊息,ASML的舉動毫無意義
事實也的確如此,我國為了實現晶片國產化,在決定自主研發EUV光刻裝置之時,ASML首席官Peter就公開潑來冷水,表示:即便給中國圖紙,他們也無法造出價值1...
大家對ASML最大的誤解:以為光刻機技術無敵,其實是攢局無敵
臺積電工廠耗電量頂56萬平民, 3nm工藝要來了,臺灣這電網扛得住嗎?
華為研發的這種晶片,能夠支援5奈米及以下工藝製程,你知道幾個?
事情原委是這樣的,2018年4月,中芯國際向ASML訂購了一臺EUV,雙方說好,要在2019年的年初交貨的,那時候,荷蘭官方也表示同意,於是向ASML發放了EUV出口許可證...
展銳唐古拉兩款5g晶片採用6 nm euv工藝,為什麼要強調euv?
此外,EUV光刻機必須在超潔淨環境中才能執行,一小點灰塵落到光罩上就會帶來嚴重的良品率問題,並對材料技術、流程控制、缺陷檢驗等環節都提出了更高的要求...