國產光刻機，又一次迎來突破！

在國內院士認為我們造一臺先進光刻機難度巨大的時候、ASML的執行長，在某次演講中表示，中國或將在3年內實現國產光刻機的突破，在15年內能夠實現所有晶片技術的攻克，而這，或許就是ASML為啥那麼著急想要供貨於華的主要原因吧，因為根據以往的經驗，國產崛起，勢必會在成本上有所下降，那麼對於ASML而言，將會失去更多的市場。

暫且不說這是不是麻痺或是吹捧吧，但可以實實在在地看到國內半導體的崛起。雖說一臺高階光刻機所涉及到的零部件和供應商是巨大的，但是國內也沒有停止研發的步伐，而近期，關於光刻機，中科院傳來了好訊息！

繼清華之後，中科院也傳來好訊息！

清華在前段時間公佈了一項研究成果，大體就是說清華髮現了一種新的光源，而這種光源恰好是EUV光刻機所需要的，但是這個光源具有更好的功能、高重頻、窄頻寬，總之是比ASML所採用的光源要好一點。

而就在6月10日的時候中科院也傳來一個好訊息，中科院旗下的上海光機所在“快速光學鄰近效應修正技術”上實現了突破，透過模擬效果來看，這項技術具有更高的修正效率！它有什麼用？簡單來說是光刻機90nm及以下節點所需的關鍵性技術之一。

“又一項技術的突破”！不少網友激動地說！

從去年9月開始，中科院就表示將會入局光刻機領域，這還不到一年的時候，就在光刻機某項技術上實現了突破，實在是可喜！當然，如果非要說光刻機所需要的技術多如牛毛，這次是剛剛開始也能夠接受！畢竟，這真的是才剛剛開始，只不過ASML已經坐不住了！

ASML：三年或十五年！

在全球都追趕半導體的時候，那麼製造裝置也是急需的，就目前而言也就是荷蘭的ASML已經日本的兩家公司在光刻機市場有分量，但如果說是先進光刻機，那就ASML一家，但根據去年的財報來看，還是DUV等裝置佔據大頭，尤其是在中國市場。

前面我們也說過，如果一旦國內實現光刻機的突破，那麼就像當年中微半導體推出MOCVD裝置裝置一樣，在價格上是驟減的，或許ASML也是能夠明白國內市場以及國內需求，所以才會多次示好中國市場，這也可以說是供貨，也可以說是先來佔據市場份額，畢竟後期能否還這般如魚得水，就不好說了！

ASML指出，如果限制不放開，由於技術的壁壘和晶片的急需，將會導致中國加大力度實現突破，或許三年後將能夠實現自主！

但話也說回來，積體電路本就是一個集大成的領域，單靠一家企業或是一個地區也確實難以實現更好的突破，吳漢明院士曾表示，未來的競爭，更多的會聚焦於產業鏈的競爭！

或許上海微電子、中科院是中堅力量也是牽引力量，還是需要更多的國內力量來推動發展，畢竟一臺光刻機所涉及到的供應商高達五千多家，我們想要實現國產崛起，所需要的努力還有很多。

前面道路坎坷，但我們已經在路上了！

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