對於晶片廠商而言，光刻機顯得至關重要，而ASML也在積極佈局新的技術。據外媒報道稱，截至 2022 年第一季度，ASML已出貨136個EUV系統。

按照官方的說法，新型號的EUV光刻機系統 NXE：3600D將能達到93%的可用性，這將讓其進一步接近DUV光刻機（95%的可用性）。

資料顯示，NXE：3600D系統每小時可生產160個晶圓 （wph），速度為30mJ/cm，這比 NXE：3400C高18%。二正在開發的 NXE：3800E系統最初將以30mJ/cm的速度提供大過195wph的產能，並在吞吐量升級後達到220wph。

據介紹，

NXE:3600E 將在像差、重疊和吞吐量方面進行漸進式光學改進，而在0.33 NA的EUV光刻機領域，ASML路線圖包括到2025年左右推出吞吐量約為220wph的NXE:4000F。

對於0。55 NA的光刻機，需要更新的不但是其光刻機系統。同時還需要在光掩模、光刻膠疊層和圖案轉移工藝等方面齊頭並進，才能讓新裝置應用成為可能。

根據ASML 在一季度財務會議上披露的資料，公司的目標是在2022年出貨55臺EUV系統，併到2025年實現（最多）90臺工具的計劃。ASML同時還承認， 90臺可能超過2025年的實際需求，不過他們將其描述為為滿足2030年1萬億美元半導體行業需求所做出的巨大努力。

按照之前的說法，ASML正在研發新款光刻機，價值高達4億美元（約合26億元人民幣），雙層巴士大、重超200噸。原型機預計2023年上半年完工，2025年首次投入使用，2026年到2030年主力出貨。

這款機器應該指的就是High-NA EXE:5200（0.55NA），Intel是全球第一個下單的公司。所謂High-NA也就是高數值孔徑，2nm之後的節點都得依賴它實現。