吳漢明是誰？中國工程院院士，中芯國際積體電路製造有限公司技術研發副總裁，湖北大學微電子學院名譽院長。他的這句話如果是從茅臺院士嘴裡講出來，我一定噴得他狗血噴頭。不過從一個微電子工藝專家嘴裡講出來，似乎可信度比較高。

但是我還是帶著將信將疑的想法。吳漢明院士在美國做過博士後，去過英特爾公司。期間在90年代初回國，可是沒待多久就又跑去美國。顯然當時中國的科技環境容不下他。2001年開始一直在中芯國際工作。以他的經歷，似乎不會說出荒腔走板的話出來。

果然，深扒了一下他的其他發言，我發現是媒體在斷章取義！根據吳漢明院士的觀點，

研發光刻機不能成為唯一目標，打造半導體的完整產業鏈才是核心。

去追求7nm晶片生產線，倒不如把精力放在雖然落後，但是完全國產化的55nm工藝上。這才是吳漢明院士講話的初衷。他其實是站在更高的地方，放眼整個半導體產業。

目前在整個光刻機技術裡，荷蘭、英國佔32%，美國佔27%，德國佔14%，日本佔27%。這麼多的關鍵技術，靠一個國家或地區很難做出一個光刻機。所以吳院士講的話確實沒錯。

但是，假如中國只取代美國的27%，建造一個沒有美國技術的光刻機難道也沒有可能嗎？我覺得也是有可能的。

最近一些時間，關於中國的企業研發出晶片相關技術的訊息很多。比如4月就有光刻膠方面的訊息，濱州光刻膠生產園區正式交付使用。5月山東淄博某企業突破了國外在蝕刻金屬引線框架方面的技術壟斷，成功研製出國產替代品。

華為的光晶片工廠也快建成了。EDA軟體方面，華為開發的純國產軟體也在路上。就在昨天，華為剛曝光出一個半導體封裝專利，之前華為也曾不斷爆出一些晶片光刻方面專利等等。

如果中國首先在40-55nm製程實現完全國產化，或者去美國化，那對於美國的科技封鎖政策來說，也是一個沉重的打擊！我覺得這個目標1-2年可能就能達成！14nm以下的目標我覺得可能還得5年以上！ 大家覺得還得多少年實現呢？